Der Begriff der Laserdekontamination wurde 1994/1995 von der Freiburger Laserarbeitsgruppe Bach/ Krekeler und Mall geprägt. Sie führten den bis dahin unbekannten Diodenlaser mit den folgenden Parametern in die Zahnheilkunde ein:
Bei der Dekontamination wird das Diodenlaserlicht (810 nm) mit einer
Faser unter Kontakt und ständiger Bewegung auf die Zahn bzw. Implantatoberfläche appliziert.
Die Maximalleistung beträgt 1 W, die maximale Dauer der Laserlichtapplikation 20 Sekunden. Sollte am selben Zahn/ Implantat ein Bedarf an weiterer Laserlichtapplikation bestehen, so ist eine Pause von 30 Sekunden einzulegen.
Im klinischen Einsatz hat sich die Zeitspanne von 20 Sekunden als ausreichend herausgestellt. Bietet ein Zahn/Implantat eine vom Knochen entblößte Oberfläche, die mehr als 20 Sekunden Laserlichtapplikation bedarf, ist die Prognose dieses künstlichen Zahnpfeilers als infaust einzustufen und eine (auch laserunterstützt durchgeführte) Therapie als fragwürdig bis experimentell einzustufen. Eine Überschreitung der Zeitwerte führt unweigerlich zur Erhitzung des Zahnes/ Implantates und des peridontalen/periimplantären Knochens und damit zur Destruktion.
Die angegebenen Parameter (1,0 W/20 s) sind von anderen Autoren (Sennhenn-Kirchner et al./Moritz et al. [1]) eindrucksvoll bestätigt und von praktisch allen Geräteanbietern/-herstellern des florierenden Diodenlasermarktes übernommen worden.
Ergebnisse mit dem Diodenlaser
Romanos et al. beschrieben die Möglichkeit, mit Nd:Yag-Lasern ohne Änderung der Oberfläche arbeiten zu können. Langzeit- und klinische Ergebnisse liegen hier allerdings noch nicht vor; hingegen die bereits erwähnte Diodenlaser-Arbeitsgruppe aus Freiburg i. Br. vermochte im Jahre 2000 eine 5-Jahres-Studie vorzulegen [2], die eine Senkung der Rezidivquote von einstmals 30 % (ohne Laser) auf nunmehr 11 % (mit Diodenlaser) belegte. Diese Autoren forderten die Integration der Diodenlaser- Dekontamination in bewährte Schemata der Parodontitis bzw. Periimplantitistherapie als Standardverfahren (Abb. 6a–i).
Abb. 6a–i: Periimplantitistherapie mit dem Diodenlaser im Langzeitverlauf 1994 bis 2004. Abb. 7a–d: Periimplantitistherapie mit dem CO2-Laser an zwei Implantaten im Unterkieferseitenzahnbereich (mit freundlicher Genehmigung von Prof. Dr. Herbert Deppe, München).
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